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财联社 5小时前

台积电公布最新技术路线 因成本问题不再购买阿斯麦下一代光刻机

财联社 4 月 23 日讯(编辑 马兰)台积电周三发布了其 A13 芯片技术,计划在不升级到阿斯麦最新高数值孔径极紫外光刻设备的情况下,制造更小、更快的处理器。

阿斯麦最新的高数值孔径极紫外光刻机单价超过 4.1 亿美元,大约是旧款光刻机价格的两倍。台积电副联席首席运营官 Kevin Zhang 表示,下一代高数值孔径光刻机非常非常昂贵,公司将继续使用现有的极紫外光刻技术。

他还强调,台积电在研发方面做得非常出色,既充分利用了现有的极紫外光刻技术,又制定了积极的技术扩展路线图,这绝对是台积电的优势。

这一决定可能给阿斯麦业务带来挑战。阿斯麦原预计高数值孔径光刻机将在 2027 年和 2028 年进入大规模量产阶段,并到 2030 年实现高达 600 亿欧元的营收。

新技术路线

随着芯片规模的不断扩大,成本和先进封装技术的重要性可能正与光刻技术不相上下,成本已成为台积电当前研发新技术时的重要参考。

台积电将 A13 工艺描述为 A14 工艺的缩小版,在保持 A14 设计规则不变的情况下,面积缩小了 6%。这一工艺将主要用于制造人工智能芯片。

与此同时,该公司还推出了 N2U 工艺,这是一种 2 纳米制程的变体,预计将于 2028 年推出,目标是与 N2P 工艺相比,速度提高 3%-4% 或功耗降低 8%-10%。N2U 是一种更具成本效益的选择,可用于制造手机和笔记本电脑芯片以及人工智能芯片。

然而,小型化和高速化芯片带来的性能提升有限。台积电还展示了将复杂 AI 芯片拼接在一起的新技术计划,分析师预计,未来几年,像英伟达这样的公司将从这项新技术中获得最大的性能提升。

目前,像英伟达的 Vera Rubin 这样的 AI 产品包含两颗大型计算芯片和八组高带宽内存堆叠。而台积电周三表示,到 2028 年,它将具备将十颗大型芯片和二十组内存堆叠拼接在一起的能力。

这将使芯片的功率和性能得以提升,但咨询公司 More Than Moore 的首席分析师 Ian Cutress 指出,大型芯片封装可能弯曲和破裂,这是英伟达 Rubin AI 处理器遇到的问题,但台积电未就此问题进行说明。

(财联社 马兰)

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