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金融界 1小时前

长江存储申请半导体结构及其制备方法专利 , 有利于半导体结构沿第一方向微缩

国家知识产权局信息显示,长江存储控股股份有限公司申请一项名为 " 半导体结构及其制备方法、存储系统、电子设备 " 的专利,公开号 CN121985532A,申请日期为 2024 年 10 月。

专利摘要显示,本公开提供了一种半导体结构及其制备方法、存储系统、电子设备,涉及半导体芯片技术领域,旨在解决半导体结构尺寸微缩遇到瓶颈的问题。该半导体结构包括电容结构和多个第一沟道结构。多个第一沟道结构沿第一方向层叠设置。电容结构包括多个第一电极结构和第二电极结构以及第一介电层,多个第一电极结构沿第一方向层叠设置,且一个第一电极结构与一个第一沟道结构连接,第二电极结构包括第一子部和多个第二子部,多个第二子部与多个第一电极结构沿第一方向交替层叠设置,第一子部连接多个第二子部,第一介电层位于第一电极结构和第二电极结构之间。通过上述设置,无需在相邻第一电极结构之间额外设置隔离层,有利于半导体结构沿第一方向微缩。

天眼查资料显示,长江存储控股股份有限公司,成立于 2016 年,位于武汉市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本 1782000 万人民币。通过天眼查大数据分析,长江存储控股股份有限公司共对外投资了 7 家企业,参与招投标项目 3 次,专利信息 49 条,此外企业还拥有行政许可 4 个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为 AI 基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

本文源自:市场资讯

作者:情报员

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