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证券之星 12分钟前

拓荆科技公布国际专利申请:“工艺腔室、半导体器件的加工设备及方法”

证券之星消息,根据企查查数据显示拓荆科技(688072)公布了一项国际专利申请,专利名为 " 工艺腔室、半导体器件的加工设备及方法 ",专利申请号为 PCT/CN2024/118561,国际公布日为 2026 年 3 月 5 日。

专利详情如下:

图片来源:世界知识产权组织(WIPO)

今年以来拓荆科技已公布的国际专利申请 1 个。结合公司 2025 年中报财务数据,2025 上半年公司在研发方面投入了 3.01 亿元,同比减 4.33%。

数据来源:企查查

以上内容为证券之星据公开信息整理,由 AI 算法生成(网信算备 310104345710301240019 号),不构成投资建议。

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