证券之星消息，根据天眼查 APP 数据显示上海新阳（300236）新获得一项发明专利授权，专利名为 " 一种 i 线光刻胶及其制备方法和应用 "，专利申请号为 CN202111450762.8，授权日为 2025 年 7 月 15 日。
专利摘要：本发明公开了一种 i 线光刻胶及其制备方法和应用。本发明公开的 i 线光刻胶组合物的制备方法包括下列步骤：将 i 线光刻胶组合物的各组分混合均匀，即可；所述 i 线光刻胶组合物包括以下组分：树脂、光敏剂、有机硅流平剂和有机溶剂；所述树脂包括下述重量份数的组分：80 90 份酚醛树脂、20 50 份树脂 C 和 10 15 份树脂 D；所述酚醛树脂为酚醛树脂 A 和酚醛树脂 B 的至少一种；所述有机硅流平剂为聚甲基苯基硅氧烷。采用本发明的 i 线光刻胶组合物在用于 i 线光刻时得到的光刻胶图光敏性和分辨率高。
今年以来上海新阳新获得专利授权 12 个，较去年同期减少了 64.71%。结合公司 2024 年年报财务数据，2024 年公司在研发方面投入了 2.2 亿元，同比增 48.02%。
通过天眼查大数据分析，上海新阳半导体材料股份有限公司共对外投资了 28 家企业，参与招投标项目 71 次；财产线索方面有商标信息 10 条，专利信息 407 条，著作权信息 2 条；此外企业还拥有行政许可 104 个。
数据来源：天眼查 APP
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