在半导体设备中，光刻机是核心设备，决定了工艺的先进程度，EUV 是当前最先进的光刻机，可以制造 7nm 以下的工艺，全球仅有荷兰 ASML 公司能够生产，单价将近 10 亿元，下一代 EUV 甚至超过 25 亿元。
研发 EUV 光刻机到底有多难？全球还有别的公司可以制造出来吗？对于这样的疑问，ASML 公司日前在财报会议上谈到了 EUV 的难点。
ASML 表示，就 ASML 而言，它由数百个供应商组成，每个供应商在什么方面都是世界级的。
只要提到通快、蔡司和 VDSL 的名字，他们的工作就是世界级的，这只是上百家供应商中的三个。
研发光刻机需要的不止是专利，它的诀窍是人，是大脑，ASML 表示这些花了 40 年的时间。
物理学规律在全球都是一样的，但是 ASML 做到这一步有着数百家公司积累的专业知识，他们作为系统集成商做出了光刻机。
