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驱动之家 08-10

2nm 芯片研发遭遇瓶颈:没 ASML 下一代 EUV 光刻机搞不掂

在业内,比 Intel、台积电、三星还要早就能接触到 ASML 光刻机新品的是比利时微电子研究中心(IMEC),虽然名气不大,但其实它是世界上最大的半导体专门研究机构。

因为离得近,ASML 的原型试做机,往往在完工后就第一时间送交 IMEC 评估尝鲜。

日前,IMEC 首席执行官 Luc Van den hove 在公开路线图时表示,当前的 EUV 光刻设备其实可以响应到 2nm 的微缩水平,不过,想要超越,必须要靠下一代高 NA EUV 光刻机。

他督促 ASML 在未来 3 年内,全力投产高 NA 光刻机。

所谓高 NA 也就是光刻机的透镜和反射镜数值孔径达到 0.55,进而增加光刻分辨率,以便制备更精密的为电路图像。当前的 EUV 光刻机均停留在 0.33 的水平。

一切顺利的话,ASML 会在明年推出其首款高 NA EUV 光刻机,Intel、三星和台积电都争相第一时间部署进厂,其中 Intel 下手最快。

这款光刻机价值高达 4 亿美元(约合 26 亿元人民币),组装好的体积有双层巴士大、重超 200 吨。

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