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驱动之家 05-13

ASML EUV 光刻机更强了:薄膜透光率首超 90%

日前在韩国的一场半导体交流活动中,ASML 韩国营销经历 MyoungKuy Lee 透露,公司将开始供应透光率超 90% 的薄膜,以提升 EUV 光刻机的效率。

据悉,这款薄膜是 ASML 与 Teradyne(泰瑞达)联合研发,日本三井化学代工,已经通过了 400 瓦测试。

ASML 2016 年首次开发出光罩薄膜,当时的透光率是 78%。随后在 2018 年,薄膜透光率提升到 80%,去年提升到 85%。

薄膜用于保护光罩免受污染,单价 2.6 万美元左右(约合人民币 16.78 万元)。

另外,韩国企业 FST、S&S Tech 也都在紧张开发 EUV 光刻机所需的薄膜,FST 此前预期上半年开始供应 90% 透光率的碳化硅薄膜。

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