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英特尔未来十年技术路线图被披露:2023 年采用 5nm 2029 年升至 1.4nm

Techweb 2019-12-11

【TechWeb】12 月 11 日消息,据国外媒体报道,芯片巨头英特尔在 10nm 和 7nm 工艺方面,并未跟上竞争对手的节奏,其目前在芯片工艺方面也落后于台积电和三星。

不过在 10nm 和 7nm 方面落后于竞争对手的英特尔,对未来还是有着清晰的计划,其在未来 10 年的技术路线图已经被披露,将保持两年一次升级的节奏。

英特尔未来十年的技术路线图,是由光刻机厂商阿斯麦的首席技术官 Martin van den Brink 在国际电子器件大会上披露的,由 IEEE(电气和电子工程师协会)所举办的这一大会在本周举行。

阿斯麦所披露的英特尔未来十年技术路线图显示,英特尔今年将开始采用 10nm 工艺,2020 年是 10++ 工艺,2021 年则会推出 10nm+++ 工艺。

10nm 之后的 7nm 工艺将在 2021 年开始采用,7nm+ 和 7nm++ 则会在随后的两年分别推出。对于 7nm 工艺,英特尔首席工程官兼技术、系统架构和客户部门总裁默西 · 伦杜琴塔拉 ( Murthy Renduchintala ) 在去年 12 月份曾透露,这一工艺是由一个独立的团队负责,他们将汲取在 10nm 工艺上的教训,打算按内部最初的计划量产 7nm 工艺,他们对 7nm 工艺的进展也非常满意。

技术路线图显示,7nm 之后更先进的 5nm、3nm、2nm 和 1.4nm,也已进入了英特尔的视野,其中 5nm、3nm 和 2nm 目前都处在路线发现阶段,分别计划在 2023 年、2025 年和 2027 年采用,2029 年拟推出的是 1.4nm。

同 10nm 和 7nm 工艺一样,5nm、3nm 和 2nm 工艺也会有升级版,将分别推出 "+" 和 "++" 工艺,均会在随后的两年推出。

就从 ASML 披露的技术路线图来看,在 10nm 和 7nm 工艺方面落后于台积电的英特尔,5nm 和 3nm 工艺的采用时间,也将晚于台积电。台积电 5nm 工艺的良品率目前已经提升到了 50%,预计明年一季度量产,3nm 则是计划在 2022 年量产,均要早于英特尔 3 年。

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